KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜

为了使堵片传感器的灵敏度分辨率、测量范围小、测量精度等得到提高可实现对堵片打开信号的可靠、稳定测量满足航天飞行器发动机控制系统信号测试需要某堵片传感器制造商采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射制备堵片传感器薄膜.

 

伯东 KRI  RFICP220 技术参数:

型号

RFICP220

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

离子束

聚焦,  平行,  散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

30 cm

直径

41 cm

中和器

LFN 2000

可选灯丝中和器可变长度的增量

KRI 射频离子源 RFICP 220

 

KRI 的独特功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 技术的情况下是无法实现的.

 

KRI 已应用于许多已成为行业标准的过程中.

 

伯东是德国  ,  ,  ,  ,  美国  ,  美国HVA 真空阀门,  美国  ,  美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

 

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