上海伯东美国 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
上海伯东美国 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.
e-beam 电子束蒸发系统加装 作用
通过向生长的薄膜中添加能量来增强分子动力学, 以增加表面和原子/分子的流动性, 从而导致薄膜的致密化.
通过向生长薄膜中添加活性离子来增强薄膜化合物的化学转化, 从而得到化学计量完整材料.
使用美国 可以实现
增强和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改进, 控制薄膜化学计量, 提高折射率, 降低薄膜应力, 控制薄膜微观结构和方向, 提高薄膜温度和环境稳定性, 增加薄膜附着力, 表面, 薄膜界面和表面平滑, 降低薄膜吸收和散射, 增加硬度和耐磨性.
KRi KDC 典型案例:
设备: e-beam 电子束蒸发系统
离子源型号: KDC 75
应用: IBAD 辅助镀膜, 在玻璃上镀上高反射率膜 (光栅的镀膜)
离子源对工艺过程的优化: 无需加热衬底, 对温度敏感材料进行低温处理, 简化反应沉积
上海伯东美国 适用于各类沉积系统 (电子束蒸发或热蒸发, 离子束溅射, 分子束外延, 脉冲激光沉积), 实现 IBAD 辅助镀膜
美国 KRi KDC 型技术参数：
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型号
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Discharge 阳极
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DC 电流
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DC 电流
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DC 电流
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DC 电流
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DC 电流
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离子束流
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>10 mA
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>100 mA
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>250 mA
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>400 mA
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>650 mA
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离子动能
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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栅极直径
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1 cm Φ
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4 cm Φ
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7.5 cm Φ
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12 cm Φ
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16 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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1-5 sccm
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2-10 sccm
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2-15 sccm
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2-20 sccm
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2-30 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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长度
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11.5 cm
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17.1 cm
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20.1 cm
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23.5 cm
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25.2 cm
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直径
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4 cm
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9 cm
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14 cm
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19.4 cm
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23.2 cm
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中和器
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灯丝
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上海伯东美国 KDC 系列适用于标准和新兴材料工艺. 在原子水平上工作的能力使 能够有效地设计具有纳米精度的薄膜和表面. 无论是密度压实, 应力控制, 光学传输, 电阻率, 光滑表面, 提高附着力, 垂直侧壁和临界蚀刻深度, KDC 离子源都能产生有益的材料性能. 上海伯东是美国中国总代理.
上海伯东同时提供 e-beam 电子束蒸发系统所需的, , 等产品, 协助客户生产研发更高质量的设备.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项专. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
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