常见工艺应用
通过使用上海伯东美国 可以对材料进行加工, 真空环境下, 实现沉积薄膜, 干式蚀刻和材料表面改性等工艺.
常见工艺应用
工艺应用
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简称
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In-situ substrate preclean 预清洁
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PC
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Ion-beam modification of material and surface properties
材料和表面改性
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IBSM
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- Surface polishing or smoothing 表面抛光
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- Surface nanostructures and texturing
表面纳米结构和纹理
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- Ion figuring and enhancement 离子计算和增强
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- Ion trimming and tuning 离子修整和调谐
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- Surface-activated bonding 表面键合
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SAB
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Ion-beam-assisted deposition 辅助镀膜
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IBAD
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Ion-beam etching 离子蚀刻
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IBE
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- Reactive ion-beam etching 活性离子束蚀刻
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RIBE
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- Chemically assisted ion-beam etching 化学辅助离子束蚀刻
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CAIBE
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Ion-beam sputter deposition 离子溅射
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IBSD
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- Reactive ion-beam sputter deposition 反应离子溅射
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RIBSD
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- Biased target ion-beam sputter deposition
偏压靶离子束溅射
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BTIBSD
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Direct deposition 直接沉积
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DD
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- Hard and functional coatings
硬质和功能性涂料
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1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi中国总代理.
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