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【中文篇名】	砷及三氯化砷中痕量硫还原动态的探讨及其测定
【英文篇名】	Dynamic Study of a Reduction Process and Determination of Trace Sulphur in Arsenic and Its Trichloride
【作者】	林中鹏;
【英文作者】	Lin Zhongpeng （General Research Institute of Nonferrous Metals; Ministry of Metallurgical Industry）;
【作者单位】	冶金部有色金属研究总院;
【文献出处】	分析化学 , Chinese Journal of Analytical Chemistry, 编辑部邮箱 1981年 03期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊中国期刊方阵 CJFD收录刊
【中文关键词】	还原系统; 三氯化砷; 动态曲线; 痕量硫; 还原装置; 还原剂; 选择电极; 极谱测定; 还原时间; 伏安法;
【摘要】	本文提出一种测定砷及其氯化物中痕量硫的灵敏方法。此法采用了高效还原系统,用S~(2-) 选择电极和电子计算机研究了该系统的还原动态,证明这种系统能使HI还原剂效率较传统装置高10倍。检测方法采用作者过去研究的阴极解脱伏安法.砷及三氯化砷中硫的检出限分别为0.05和0.005微克/克。
【英文摘要】	Based on the employment of a new reduction system, a sensitive method for determining trace sulphur in arsenic and its trichloride has been developed. The dynamic reduction process of surphur has also been studied by sulfide ion selective electrode and electronic computer, which indicates that the efficiency for HI reducing agent in the system is 10 times higher than in the conventional system. The detection limits for sulphur in arsenic and its trichloride are 0.05 and 0.005 μg/g respectively.
【DOI】	CNKI:SUN:FXHX.0.1981-03-000
【更新日期】	2006-11-09
【正文快照】	现有的砷中硫分析方法〔’一“〕都不够灵敏。原因之一是硫与主体砷分离的方法不合适:氢还原法〔“·“’无法确知硫的真正回收率; Hl还原法〔’·“·‘’不能在砷大量存在下进行,需要先分离主体,因而空白值较高。原因之二是检出手段灵敏度较差。本文提出一种高效率还原系统。