| 【中文篇名】 | 超高真空电子束蒸发钽膜 |
| 【作者】 | 王达元; |
| 【作者单位】 | 国营南光机器厂; |
| 【文献出处】 | 真空科学与技术 , [英文刊名], 编辑部邮箱 1981年 05期 期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊 |
| 【中文关键词】 | 真空度稳定; 超高真空电子束蒸发; 蒸发温度; 电子枪灯丝; 工作情况; 液态氮; 淀积速率; |
| 【摘要】 | <正> 在生产和科研上常常用溅射法获得钽膜。但溅射钽的淀积速率很低,一般低于0.1μ/分。最近,我们用 H44·500-3型超高真空电子束蒸发机蒸发钽膜,效果较好。其工作情况是:蒸发真空度:5×10~(-7)托,电子束功率:1.5KW,电子枪高压:11000伏,蒸发温度:>3000℃,液态氮耗量:30升/小时,钽膜淀积速率:30～45μ/分。 |
| 【DOI】 | CNKI:SUN:ZKKX.0.1981-05-011 |
| 【更新日期】 | 2006-10-20 |
| 【正文快照】 | t在生产和科研上常常用溅射法获得担膜。但溅射担的淀积速率很低,一般低于0.1lt/ 最近,我们用H44·500一3型超高真空电子束蒸发机蒸发担膜,效果较好。其工作情况是:蒸发真空度:5 x 10-’托,电子束功率:1.SKW,电子枪高压:11。。o伏,蒸发温度:>3000℃,液态氮耗量:30升/小时,担膜 |
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