抛光的速度会对大平面抛光机有哪些影响
抛光速率对平面抛光机的重要性,
操作的关键是要设法得到{zd0}的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成组织。
前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但
损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。 解决这个矛盾的{zh0}的办法就是采用自动抛光设备。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有{zd0}的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。
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