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用富勒烯残余烟灰制备炭分离膜的初步研究 周 颖 邱介山 周 杰 郭树才
摘 要 以富勒烯残余烟灰为原料,采用粘结成型炭化法制备出炭分离膜,目的在于考察富勒烯残余烟灰的有效利用途径。实验结果表明,富勒烯残余烟灰可以用来制备炭分离膜,制备工艺条件对膜性能有较大影响。 FULLERENE WASTE SOOT Zhou Ying Qiu Jieshan Zhou Jie Guo Shucai ABSTRACT The carbon membrane from fullerene waste soot was prepared by means of binder moulding methods.Effects of preparation conditions on both ideal separation factor and gas permeation rate of carbon membrane were discussed.The results demonstrate that fullerene waste soot can be used as raw materials to produce carbon membranes,and the properties of carbon membrane are affected substantially by the preparation conditions. 以C60为代表性分子的富勒烯自从1985年由Kroto等人[1]发现以来,由于其独特的结构,倍受世界各国学者的关注。十几年来的理论和实验研究,对富勒烯的物理化学性质及其应用研究已经取得了许多有益的结果。在制备富勒烯的各种方法中,电弧法[2]由于其操作简便,产率较高在国内外得到广泛应用。电弧法制备富勒烯时,石墨、煤基炭[3]等在一定的条件下放电蒸发为富勒烯烟灰,此烟灰为炭的混合物,经甲苯等溶剂萃取后得到C60/C70的黑色粉末,重量约为原富勒烯烟灰重量的2%~10%,而剩余90%左右的残余烟灰其结构和性质介于富勒烯和工业炭黑之间[4]。如何有效地利用炭质吸附剂的代用品用于工业和民用污水的处理[5];将残余烟灰用CO2活化处理也可制得具有较高内表面积(约700m2.g-1)的炭分子筛材料[6],其中大部分孔隙的直径小于0.5 nm。烟灰的这些特点使它有可能成为制备炭分离膜的前驱体。
将富勒烯烟灰与粘结剂以一定的配比混合均匀后,在压片机上以一定的压力挤压成型,并在120 ℃烘箱中固化处理1 h,然后将其置于管式炉中,在N2的保护下,以一定的升温速率加热至终温,恒温一定时间后自然冷却到室温,即得炭膜。
气体渗透速率由下面公式计算: J=Q/A.t.ΔP 式中:J为纯气体组分的渗透速率, cm3.cm-2.s-1.Pa-1 Q为单位时间内透过膜的气体体积, cm3.s-1 A为膜的分离面积, cm2
图4显示了炭化终温与膜理想分离系数的关系。实验条件同图3。由图4可以看出,随着炭化终温的升高,膜理想分离系数呈凹线形变化,炭化终温为900℃时,膜理想分离系数有一个{zd2}点,这与膜孔径的缩小和均一化有关。作为粘结剂的酚醛树脂在700℃以前挥发分已经基本析出,当温度达到900℃以上时,残存的粘结焦进一步热分解,析出少量小分子烃和氢,形成一部分有利于气体扩散的孔隙,从而表现为理想分离系数的增大。
炭化恒温时间与膜气体渗透速率的关系如图5所示。实验条件为:粘结剂用量W为10%,炭化终温800 ℃,成型压力15 MPa,炭化升温速率1 ℃.min-1。从图5可以看出,气体渗透速率随着炭化恒温时间的延长逐惭减小,在90 min以后,气体渗透速率有所增加。这是因为高温处理时孔的收缩占主导地位,当恒温时间达到90 min以后,高温处理使得一些闭孔被打通并进一步调孔,表现为H2、N2渗透速率有所增加,但高温调孔对于大分子CO2的作用不大。
图6为炭化恒温时间与膜理想分离系数的关系。实验条件同图5。从图6可以看出,随着炭化恒温时间的延长,H2/N2的理想分离系数呈缓慢下降趋势;H2/CO2的理想分离系数在90 min前缓慢下降,恒温时间超过90 min后则呈快速上升的趋势。这一方面是由于高温调孔的作用,此外,炭膜对极性分子CO2相对高的吸附性也是使得H2/CO2理想分离系数增大的原因。
2.2 粘结剂用量对炭膜性能的影响
从以上的分析可以看出,在炭化法制备炭膜的过程中,工艺条件对膜的性能有较大影响,改变工艺条件,可以调整膜孔径的大小及分布。对于不同的混合气体的分离系统,为达到{zj0}的分离效率应采用不同的工艺条件。 参考文献 1 Kroto H W,Heath J R,O'Brien S C,et al.C60:buckminsterfullerene.Nature,1985,318(6042):162 收稿日期:1998-10-19 |
三室 OLED有机/无机蒸发复合制备设备
高真空MOCVD-型外延系统
高真空反应沉积室,极限真空度优于:6.7×10-5Pa(经烘烤除气) 反应沉积室:尺寸:φ200×240mm 样品加热器:样品尺寸为:φ50mm 沉积温度:800~1200℃ 温度精度:±1℃ 真空室漏率:小于5×10-8Pa.l/s 工作气体为五路,其中3路为有机源,气态源为2路,由进口质量流量控制器控制
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主要应用于化合物半导体材料的研究和生产,是当今世界上生产半导体光电器 | |
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反应室:超高真空环境下完成材料沉积 进样室:可快速进样,并保证外延室超高真空环境 样品传递:机械手操作,一次可在进样室储存多块样品,可依次进入生长室生长 气路系统:气体源包括: 3-5路金属有机源;4-6气态源 电控系统: xx控制温度、转速、位移 计算机系统:控制气体输运、样品加温、生长工艺等 |
镀膜室:φ600×500mm 为圆筒型立式全不锈钢结构
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专门用于在锗透镜等红外透镜上沉积 类金刚石膜(硬碳膜),以提高透镜的耐磨性、红外透镜过滤等性能。试用于 大专 院校、科研院所研制和生产大面积老类金刚石膜。 | |
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有沉积室电极、射频电源、电磁线圈及控制电源、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、烘烤加热系统、水冷却系统组成。 |
有机源蒸发沉积室:极限真空优于5.0×10 -9 托 腔体尺寸 Φ450×450mm。上面开有连接磁控靶、分子泵、真空规、照明、观察窗、传递杆、石英晶体探头等法兰接口。不锈钢材料制造,氩弧焊接,外表面喷玻璃丸处理。 无机源热蒸发沉积室:极限真空5×10-7 托 腔体尺寸 Φ450×450mm。上面开有连接磁控靶、分子泵、真空规、照明、观察窗、传递杆、石英晶体探头等法兰接口。不锈钢材料制造,氩弧焊接,外表面喷玻璃丸处理。 样品引进室:极限真空5×10 -7 托 腔体尺寸 Φ200×350mm。上面开有连接闸板阀、样品架、分子泵、真空规、照明、观察窗、充气阀等法兰接口。不锈钢材料制造,氩弧焊接,外表面喷玻璃丸处理。 手套箱 包括 照明系统 , 充气阀和红外加热系统 总体安装台架组件 电器安装控制柜(总控制电源、断水保护等)
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主要应用于发光膜、导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等的制备与研究。 | |||||||||
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该设备主要由有机源蒸发沉积室、无机源蒸发沉积室、进样室、手套箱;真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;样品传递机构;电控系统;配气系统等部分组成。 FHL600型类金刚石硬碳膜沉积设备
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