建模能用对齐工具就用,不然渲染漏光才调模型很麻烦滴(是废话么?准备挡砖头…!!)
每建一个模就上一个材质,有多同类的模型先给{dy}个模型上材质再复制/关联…这样到{zh1}
建模完马上就可以布灯测染,是不是很舒服啊…
VR材质?偶只会皮毛…略过
布光… 先主后次的思路,当然主光源不单止一个,有时几个或一排,看场景照明情况咯。灯光
主要满足照亮场景为目的,但令大家头疼的就是局部过亮,为了模拟真实的衰减效果,列出一些我
常使用的灯光:(不怕被我误导的继续look。。。)
目标点光源的聚光灯类型(个人觉得能快速达到控制衰减的效果);
泛光灯(开启远衰减覆盖全场快速达到控制整体明暗,运用:补光,小射灯群,天光,夜光);
目标平行光(天光,阳光。VRSUN我把握不好- -);
VR灯(一般不大用,老感觉阴影方面用VR面灯控制不好);
我还经常用到VR灯光材质,调材质包裹照亮局部;
面比较大的物体如:地面、墙加材质包裹器提亮场景能免去打补光也不错。
布光差不多了~到渲染,如果场景比较杂,对布光强度设置把握不大,建议先关反射/折射来测染一下…
(虽然网上流行先给场景所有物体上一种偏白VR材质球,但我比较提倡赋完材质再测染,特别在反射面
多的场景中,两种方法区别就大了)
首先设渲染尺寸为320/240,关默认灯光,反射/折射 {zd0}深度1
图样采样和抗锯齿都用{dy}种:固定/区域
打开间接光照,1弹选发光贴图 倍增1;2弹选灯光缓冲 倍增0.7。发光贴图:预置为非常低,改模型细
分为20。
灯光缓冲:细分50,过滤器:接近 5。
rQMC采样器:适应数量1 最小采样6 噪波1。
系统:主要调灯光设置(一般我懒得调,但光漫反射区出现明显大块大块还是得注意去增加参数)
测染整体看得过去,赶紧出光子图吧!时间就是$_$。
一般不染超过2000x1500的图用400x300的小光子图都没问题(再大的图我没染过…惭愧)
设置图尺寸400x300 以上文参数的基础下,改:
发光贴图:预置为中,模型细分为50;
灯光缓冲:倍增0.8左右,细分为400~800 (一般我400~600)。
rQMC采样器:适应数量0.8~0.9。噪波1。
[这里重点说一下rQMC采样器的适应数量这个参数,0.001~1的值 。一般跑正式小光子图完后为了保险
等染完,如果墙上出现明显的大黑斑,这时降低适应数量(如原0.9降为0.85)再重跑小光子图可以解决]。
xxxx一般为线性模拟真实暴光,染出的小图不够亮可调变暗倍增,变亮倍增设得合适可让强光区效果
更好。
染大图。
图样采样:自适应细分/Catmull-Rom;自适应细分:最小0~2,{zd0}1~5(指使用值范围)。
(我一般用0:1选条墙边或桌边…反正就是边!--局部染看效果,不够锐就提高~一般1:2合适了)。
rQMC采样器:噪波0.001~0.5 (一般我先0.5选个墙面局部染一块,如果颗粒明显,再降着染……
0.001是你时间充足的时候用的参数)
还是老话,勤能补拙,多做图对VR的认识就越深刻…
貌似说完了…太少了?那再提醒局部渲染是很关键滴~~
如VR渲染中有时出现莫名其妙的小黑块,选择发光贴图里的细节增加然后局部去染。
还有比较重点的是:细心的你注意到我上面的渲染设置中{zd0}深度一直是1,这样能减少很多渲染时间。
但场景里有玻璃就比较麻烦了,特别是玻璃后又有反射物体,如:不锈钢、镜子,这时候被玻璃挡的反射
物体就染出一团黑。你可以把{zd0}深度值调为2,再局部染那块;如果玻璃后又有玻璃,然后才到不锈钢,
那{zd0}深度值为3,类推……
场景中有树之类面片多如麻但只是陪衬的东西,隐藏先高参数染完大图,再取消隐藏低低低参数局部染
树,这样比后期PS贴树上去真实多多多了。