AOK电子工业用超纯水

电子工业用超纯水概述:

导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

电子工业用超纯水的工艺流程:

电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：
　A.采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
　B.采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
  C.采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的{zx1}工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

高纯水水处理技术的发展史： 　　

{dy}阶段：预处理—— > 阳床 ——> 阴床 ——> 混合床

第二阶段：预处理—— > 反渗透 ——> 混合床

第三阶段：预处理—— > 反渗透 ——>EDI 装置

反渗透（ RO ）技术是一种利用膜分离去除水中离子的方法，尽管反渗透系统将水中 95%-98% 的离子去除，但还不能满足工业生产的要求，其后续工艺必须使用离子交换设备。近几十年以来，混合床离子交换技术一直作为纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品（酸碱）和纯水，因此已很难满足于无酸碱纯水系统。 正因为传统的离子交换已经越来越无法满足现代工业和环保的需要，于是将膜和树脂结合的 EDI 技术成为水处理技术的一场革命。该技术应用电再生离子交换除盐工艺取代传统混合离子交换除盐工艺DI 。通过离子交换树脂及选择性离子膜达到高脱盐效果，与反渗透结合的联合工艺使产水水质可达 10~17M Ω? CM 的高规格产水。

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