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【中文篇名】	SD—3离子束刻蚀试验机
【英文篇名】	An Experimental Ion Beam Etching System (SD—3)
【作者】	雷震寰;
【英文作者】	Lei Zhenhuan;
【作者单位】	山东大学物理系;
【文献出处】	山东大学学报(自然科学版) , Journal of Shandong University, 编辑部邮箱 1981年 01期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【中文关键词】	离子束刻蚀; 束流密度; 灯丝电源; 束径; 离子能量; 工作气压; 离子流密度; 等离子体; 离子源; 阳极电压;
【摘要】	<正> 从1977年开始对离子束刻蚀作了一些初步地探索。先后做过束径为φ20mm,φ84mm和φ135mm的离子束刻蚀装置,并作了一些刻蚀试验,取得了初步的成效。本文介绍束径为φ135mm,立式、风冷、两维旋转水冷工作台的离子束刻蚀试验机的设计、调试、性能和刻蚀试验的初步结果。
【英文摘要】	The design, measurements and performances of an experimental ion beam etching system (SD—3) are described. The system has an upright structure, a Kaufman argon ion Source, a beam diameter of 135mm and a twodimensional revolving target with water cooling. The argon ion energy can be varied in the range of 300～2000ev, with beam currents 0.8mA/cm~2 at 500ev and 1.2mA/cm~2 at 800ev. The pressure in the terget chamber is usually 2×10~(-4) torr. The beam diameter on the target plane is within 80mm and the uniform…
【DOI】	CNKI:SUN:SDDX.0.1981-01-005
【更新日期】	2005-12-22
【正文快照】	从1977年开始对离子束刻蚀作了一些初步地探索〔‘’2’“」。先后做过束径为价20mm,户84沉二和价135m二的离子束刻蚀装置,并作了一些刻蚀试验,取得了初步的成效。本文介绍束径为价135m二,立式、风冷、两维旋转水冷工作台的离子束刻蚀试脸机的设计、调试、性能和刻蚀试验的初