| 【中文篇名】 | 49号光学玻璃防雾剂鉴定会在汉召开 |
| 【作者单位】 | 武汉大学科研处; |
| 【文献出处】 | 武汉大学学报(自然科学版) , Journal of Wuhan University(Natural Science Edition), 编辑部邮箱 1981年 03期 期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 中国期刊方阵 CJFD收录刊 |
| 【中文关键词】 | 光学仪器; 科研成果; 成膜工艺; 技术鉴定; 玻璃防雾剂; 光学玻璃; xxx纪念堂; 冷加工; 高分子; 有机硅化合物; |
| 【摘要】 | <正> 我校高分子教研室研制的49号光学玻璃防雾剂,解决了水晶棺光性膜的保护问题,为xxx纪念堂工程作出了贡献。同时,在多种光学仪器和光学另件冷加工中也得到广泛应用。经湖北省科委受国家科委委托,最近在武昌主持召开了这项科研成果的技术鉴定会。专家们经过反复讨论和认真审查技术资料,认为该研究首次开发了有机硅化合物在光学玻璃防雾领域的应用,其综合性能优于国内外现有的玻璃防雾剂,达到了国际先进水平,具有理论意义和实用价值。这种防雾剂的成膜工艺简单,生产工艺合理,具有材料易得、应用广泛、使 |
| 【DOI】 | CNKI:SUN:WHDY.0.1981-03-014 |
| 【更新日期】 | 2008-08-05 |
| 【正文快照】 | 我校高分子教研室研制的49号光学玻璃防雾剂,解决了水晶棺光性膜的保护问题,为xxx纪念堂工程作出了贡献。同时,在多种光学仪器和光学另件冷加工中也得到广泛应用。 湖北省科委受国家科委委托,最近在武昌主持召开了这项科研成果的技术鉴定会。专家们经过反复讨论和认真审查技 |
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