伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (栅极离子源) 系列 RFCIP  (射频电源式考夫曼离子源), KDC  (直流电源式考夫曼离子源) 已广泛被应用于离子溅射镀膜 (IBSD) 工艺.

 

离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电, 产生正的气体离子;在(靶)和(试样)间电压的加速作用下, 荷正电的离子轰击阴极表面, 使阴极表面材料原子化;形成的中性原子, 从各个方向溅出, 射落到试样的表面, 于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜.

 

伯东 KRI考夫曼可控制离子的强度及浓度, 使溅射 (Sputtering) 时靶材 (Target) 被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射 (Sputtering) 工艺条件选择 RFICP  (射频电源式考夫曼离子源) 或是 KDC  (直流电原式考夫曼离子源).

规格如下:

RFCIP  (射频式考夫曼离子源) : , , , , 

KDC  (直流式考夫曼离子源): , , , , .

 

伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) KRI 大中国区总代理.

 

伯东是德国  , , , , 美国  , , 美国  , 美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

 

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