应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺
上海伯东某客户为精密光学镀膜产品生产商, 生产过程中需在白玻璃上进行镀膜. 由于国产镀膜设备在射频和光控性能方面的限制, 镀制过程易出现温漂现象, 材料折射率不高, 品质无法保证; 且工艺上需要加热, 这大大增加了镀膜时间. 经过伯东推荐选用国产镀膜机加装美国进口 KRi 进行辅助镀膜, 保证工艺效果, 提高生产效率.
红外截止滤光片是一种用于过滤红外波段的滤镜, IRCF 利用精密光学镀膜技术在白玻璃, 蓝玻璃或树脂片等光学基片上交替镀上高低折射率的光学膜, 其可通过实现近红外光区截止以消 除红外光对成像的影响, 是高性能摄像头的必备组件, 工艺上对所用的镀膜设备有着极高的要求.
KRi 应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺
应用领域: 光学镜头
薄膜工艺: IR-CUT
产品类别: 红外截止滤光片
应用方向: 国产镀膜机加装 进行离子清洗和辅助沉积, 实现 IR-CUT 单面镀膜
美国 KRi 考夫曼品牌射频离子源通过辅助镀膜在白玻璃 IRCF 上进行工艺升级, 解决温漂问题, 上海伯东美国 KRi RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 中国总代理.
美国 KRi RFICP 技术参数：
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型号
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Discharge 阳极
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RF 射频
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RF 射频
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RF 射频
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RF 射频
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RF 射频
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离子束流
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>100 mA
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>350 mA
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>600 mA
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>800 mA
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>1500 mA
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离子动能
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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100-1200 V
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栅极直径
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4 cm Φ
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10 cm Φ
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14 cm Φ
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20 cm Φ
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30 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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3-10 sccm
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5-30 sccm
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5-30 sccm
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10-40 sccm
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15-50 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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< 0.5m Torr
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长度
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12.7 cm
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23.5 cm
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24.6 cm
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30 cm
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39 cm
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直径
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13.5 cm
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19.1 cm
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24.6 cm
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41 cm
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59 cm
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中和器
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LFN 2000
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上海伯东同时提供真空系统所需的, , 等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项专 利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
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