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KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺

时间:2023/7/4    分类:    阅读次数:8
内容提要

KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺

应用于蓝玻璃 AR 工艺
配备 800万或以上像素的高 端手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR Coating 的镀膜, 可以增加透光率和反射红外光. 光线在透过不同介质时会产生折射和反射, 当加上单面 AR Coating 后, 滤光片会提升3~5%的透光率, 让图像更清晰且让滤光片不容易起雾. 上海伯东协助某从事光学玻璃镀膜机生产的客户, 在光学镜头材料蓝玻璃 AR工艺方面实现技术突破!
经过推荐客户采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi  RFICP 380, 在离子清洗, 辅助沉积时, 提高蓝玻璃的薄膜 / 基层物的附着性和硬度, 减少吸收残余气体的污染物和薄膜应力. 上海伯东美国 KRi  RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在蓝玻璃上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.

应用方向: 离子清洗, 辅助沉积
应用领域: 光学镜头
薄膜工艺: 蓝玻璃镀 AR增透膜
产品类别: 滤光片
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi  RFICP 380
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试
射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺

射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺
上海伯东美国 KRi  RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长!  适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 中国总代理.

KRi 射频离子源


美国 KRi RFICP 技术参数:

型号

Discharge 阳极

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

离子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

 

流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

长度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直径

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000


上海伯东同时提供真空系统所需的, , 等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产, 和. 美国历经 40 年改良及发展已取得多项专 利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.


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