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小型磁控溅射仪器 金银铜铬外镍钛铝镁等金属薄膜仪器

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最小起订量:1      计量单位:台      产品单价:38600.00      供货总量:1000

小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

 

  是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。

 

  正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

 

  (3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远

 

  低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。

 

 

 

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