HORIBA LA-950V2 新一代激光粒径分析仪

HORIBA LA-950V2 新一代激光粒径分析仪

2010-04-18 21:12:33 阅读8 评论0 字号:

 

 

(主要用于纳米材料、陶瓷、颜料、电池材料、化工、石化、药品、化妆品、食品加工等生产科研,质量管理等工作。)

 l采用最为xx的光散射理论—Mie理论 米氏散射理论是严格按照麦克斯韦电磁场理论的数学解得到的经典理论,是目前激光粒度仪所采用的计算方法中最严谨的一种。因此采用这种计算方法为仪器给出可靠的数据结果作了原理上的保证。 

 单一量程实现超大检测范围 LA-950V2的量程为0.01-3000um。0.01um的检测下限是目前激光散射法粒度仪上实现的{zd1}检测下限。

测量原理

Mie散射原理

测量粒径范围

0.01~3000um

xx度

+/-0.6% (NIST traceable PSL standards)

测量时间

1分钟(从分散媒投入到循环系统洗净及粒径分布结果显示为止)

测量方式

Flow cell测量

Fraction cell测量(需要Fraction cell/cell holder)

测量所需样品量

约10mg~5g (使用flow cell测量, 并因样品而异)

分散媒

约200mL(使用flow cell), 约10mL(使用fraction cell)

可使用的分散媒

水或醇类

界面

USB2.0 (仪器本体与PC之间)

光学系统

光源:半导体雷射光(650 nm), 5.0mW, LED(405 nm), 3.0mW

检测器:环状silicon photo diode, 侧方, 后方silicon photo diode

循环系统

分散:超音波probe

循环:离心帮浦, 可15段变化

Flow cell (Tempax glass)

使用温度.湿度

15℃-35℃、85%RH以下(但是不可以有结露的情形)

电源

AC100/120/230V 50/60Hz、150VA

外观尺寸

700(W)×500(D)×450(H)mm(突出的部位为490mm)

重量(测量仪部份)

约80kgs

计算机配备

P4计算机主机、屏幕、列表机

 

 

 

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