平面抛光机厂阐述抛光机的湿度影响
自动抛光机抛光，研磨和抛光圆盘试样应{jd1}平行并轻轻按压在抛光盘上，注意防止试样飞出去，因为压力过大而产生的新的标记。
平面抛光机厂浅析，同时还应使样品旋转和沿旋转半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损过快，在抛光过程中要不断添加粉末悬浮液，抛光织物保持一定的湿度。
自动抛光机抛光时间应该去除划痕比所需时间较长，因为同时拆下变形层。在粗糙打磨光滑，但黯淡无光，显微镜下穿制服，是精细打磨。
精细抛光转盘速度可适当提高，平面抛光机厂分析，抛光时间去除损伤层粗抛光是合适的。经过精细研磨抛光光亮如镜，看不抓在明场显微镜的条件，但相反的照明条件下仍然看到标志。
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