cvd; cvd method; by cvd;

”CVD法”;在学术文献中的解释

1、2.3　化学气相沉积法(CVD法)CVD法是指在加热的基片或物体表面上,通过一种或几种气态元素或化合物发生化学反应形成不挥发的固态膜层或材料的方法.制备TiO2薄膜常用的CVD法有等离子体化学气相沉积(PECVD)和金属有机物化学气相沉积(MOCVD)两种
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2、2．1开发了低温的涂层新工艺通常硬质合金都采用高温的化学气相沉积法（HTCVD或简称为CVD法）.此法的沉积温度高为gOO～llOO℃所以涂层与硬质合金基体之间容易形成一层脆性的脱碳层（相）导致刀片脆性破裂降低刀具使用寿命
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与”CVD法”;相关的学术图片

图1热丝CVD法在相同条件下不同衬底上生长的c-BN薄膜的X射线衍射谱(a:Ni,b:Co,c:Steel,d:Si;:c-BN衍射峰,Δ:衬底峰,x:h-BN衍射峰) 更多>>

热点年份中;”CVD法”的相关高频被引文章

2004 CVD法生长ZnSe的工艺分析 王向阳,方珍意,蔡以超,张力强,肖红涛;-被引次数;2次 2000 CVD法水蒸气条件下制备SiC块体 焦桓,周万城,李翔;-被引次数;2次 CVD法与PCVD法TiN薄膜研究 刘齐成 刘培英 陶冶 刘利;-被引次数;9次 反应温度对CVD法批量制备碳纳米管的影响 肖旭 张先锋 吴军 梁吉 徐才录 吴德海 魏秉庆;-被引次数;8次 1997 CVD法合成SiC晶须的实验研究 陈卫武,邹宗树,王天明;-被引次数;3次 微波CVD法合成金刚石薄膜生长机理分析 方莉俐;-被引次数;4次 CVD法SiC纤维的表面形貌及断口特征 郑敏 张蓬洲;-被引次数;5次 热丝CVD法变压沉积金刚石薄膜 周灵平 靳九成 李绍禄 唐璧玉 成奋强;-被引次数;2次

研究;”CVD法”;相关问题的主要学者

张志明 陈明 陈光华 吕反修 张孝彬 李昱 王万录 梁吉 孙方宏 匡同春

出版;”CVD法”;相关文献的期刊

人工晶体学报 功能材料 材料工程 微细加工技术 半导体学报 金刚石与磨料磨具 化学物理学报 物理学报 西北工业大学学报 功能材料与器件学

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