化学沉铜(electroless-copper)----1(流程步骤解释)

                   (酸性胶体钯活化工艺步骤/垂直线举例).

1.化学沉铜目的

化学铜被广泛应用于有通孔的印制线路板的生产加工中,其主要目的是:

①在于通过一系列化学处理方法在非导电基材上沉积一层铜,继而通过后续的电镀方法加厚使之达到设计的特定厚度。

②使两外层铜层通过金属化孔导通。

 

2工艺流程

化学沉铜工艺流程及操作条件见下表。

                 化学铜工艺流程及操作条件( 酸性胶体钯活化工艺/垂直线举例)

流程

时间

min

主要成份

操 作 条 件

磨板

 

 

刷除钻孔时留在孔周围的披风和毛刺。同时,经过高压水喷

和磨刷洗,以及超声波洗,xx部分孔内粉尘和板面部份脏物。

1

上板

 

 

带细沙手套,板与板之间不能叠板

2

除油

 

 

循环过滤,超声波震动换棉芯过滤

3

水洗

 

每两周清洗缸体。

4

水洗

空气搅拌,每两周清洗缸体。

5

微蚀

 

温度:常温,轻微空气搅拌。H2SO4:2.5%, NaPS:60克/L。,

6

水洗

 

 

空气搅拌

7

水洗

 

 

空气搅拌

8

预浸

 

液内循环过滤,禁止液面过滤、空气搅拌、直接加水;常温。

9

活化

 

 

换缸时换棉芯过滤。非空气搅拌

10

水洗

 

每两周清洗缸体。非空气搅拌

11

水洗

 

 

轻微空气搅拌,每两周清洗缸体。

12

加速

 

循环过滤

13

水洗

 

非空气搅拌

14

沉铜

 

中度空气搅拌,循环过滤,2次倒缸/周,校准自动添加。

15

水洗

 

 

空气搅拌,除掉板面残碱。

16

水洗

 

空气搅拌

17

下板

 

 

下板后做抗氧化处理

 

 3工艺流程说明

 3.1化学沉铜前处理的目的

①保证化学沉铜层与非导电基材之间的结合力;

②保证化学沉铜沉积层的连续完整性;

③保证化学铜与基材铜箔之间的结合力;

 

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