低反射铬版的制备技术
| 【中文篇名】 | 低反射铬版的制备技术 |
| 【作者】 | 茅哲民; |
| 【文献出处】 | 半导体技术 , Semiconductor Technology, 编辑部邮箱 1984年 06期 期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊 |
| 【中文关键词】 | 蒸发源; 低反射; 蒸镀; 铬膜; 氧化铬; 玻璃基片; 镀膜室; 铬版; |
| 【摘要】 | <正>出于本厂生产技术需要,笔者由80年下半年开始对低反射铬版经过从理论探索、实际设想到反复试验的一系列努力,完成了对低反射铬版的整个试制工作,又经过近二年的正式生产应用,并对该版作多次光学数据测定表明,在低反射率、膜厚、紫外光谱和可见光谱吸收率等技术指标上,均达到引进线生产的低反射 |
| 【DOI】 | CNKI:SUN:BDTJ.0.1984-06-012 |
| 【正文快照】 | 出于本厂生产技术需要,笔者由80年下半 从而控制蒸发速率的稳定不变。在蒸发过程年开始对低反射铬版经过从理论探索、实际设 中,透射光监控仪通过铬膜的透射比控制蒸亮想到反复试验的一系列努力,完成了对低反射 铬时间。当亮铬的透射比达到设定值时,便给铬版的整个试制工作,又 |
