关键词
气相  化学  等离子体  设备  pecvd 
仪器介绍　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

该PECVD可以升级到PECVD & 反应离子蚀刻双功能系统(带ICP源)！
该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。可选用射频(RF)、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体（ICP）源。{zd0}沉积尺寸为8英寸。
等离子源：
5英寸或8英寸多喷头平面中空阴离子源；
600瓦水冷；
Fractal monometer and carrier gas freed；
高密度等离子1013 ions/cc；
均匀性好，低污染；
应用领域：
等离子诱导表面改性(Plasma Induced Surface Modifications)；
等离子清洗(NF3)；
等离子反应离子蚀刻(Plasma Reactive Ion Etching)；
等离子聚合(Plasma Polymerization)；
等离子增强化学气相沉积(PECVD)；
SiO2, Si3N4, DLC及其它硬质薄膜
技术参数

平板尺寸(Platen size) 8英寸
源直径(Source diameter) 5英寸或8英寸
气路数(No. of gas feeds) 4(2反应气，1载气，1排气)
源到平板距离(Source to platen distance) 2英寸或可以调节
{zg}平板温度(Max. platen temp.) 400℃
射频电源(RF power supply source) 600瓦，13.5 MHz
射频偏置(RF bias) 300瓦，13.5 MHz

计算机控制的高品质沉积设备；
射频花洒喷头及等离子源；
{zd0}可沉积8英寸直径的薄膜；
RF偏置基底夹具；
水冷平板(water cooled platen)；
一路载气和两路反应气通过流量计控制流量；
分子涡轮泵；
基本真空度10-7 Torr；
空气控制阀
主要特点

可升级到PECVD & 反应离子蚀刻(Reactive Ion Etching,RIE)双功能系统；
5英寸或8英寸等离子源；
电抛光不锈钢腔体；
热台(heated platen)；
带有5英寸视窗的门(晶片装载及取出)；
装载锁(load lock)；
高度调整平板；
腐蚀泵包(corrosive pump package)；
增加气路，加热气路；
HMDS或加热液体传输系统；
1kw射频源；
脉冲直流电源；
兰缪尔探针(Langmuir probe)


主要的VENDOR有APPLIED MATERIALS，NOVELLUS。
各有利弊。
AMAT 的设备价格相对稍低，但维护成本较高，
设备性能来说，AMAT 的设备稳定性不高。
但从工艺性能来说AMAT 的要高上那么一点点。
6-8寸 AMAT 的占有率要高，但12寸，NOVELLUS 有较大的优势。
miss.wangwei at 2009-6-29 15:23:15
补充楼上的：
还有日本的ASM，PECVD, 3个chamber的
chenyufan at 2009-6-29 21:53:46
国内的就要差一些，不过也可以用，向北京七星华创、中电48所和青岛赛瑞达。如果是半导体行业的青岛赛瑞达和北京七星都可以，但一般是2个chamber的。48所主要是太阳能领域。太阳能设备三个厂家都可以提供工艺，但半导体的工艺就不行了。
Vendor at 2009-7-01 00:29:38
AMAT   Producer
Novellus  Vector
ASM Eagle
ailin at 2009-7-02 11:01:49
6-8寸 AMAT 的占有率要高，但12寸，NOVELLUS 有较大的优势



PECVD 工艺中使用的石英管，使用状况如何？？
PECVD 工艺中使用的石英管，目前使用状况如何：
)S1W @ j7o5R/}-Z 1、我们目前采用的石英管规格：OD30*ID25*L1130mm，壁厚2.5mm,目前能够控制在72个小时以上。
/Q _ t.w Y ` Q"R9`'m z   
-b'L a%[7I g+c4^ Q 客户一直说，与原厂的比较，现在的使用时间还是很差距，还要提高质量，这个石英管本身我们在做的时候，已经是非常严格的去控制他的质量，从材料与气泡方面应该说已经很好在国内石英材料来讲。我记得早期03-04年的时候，这个石英管是OD30*ID26*L1130mm，壁厚2.0mm，后来因为质量的原因才把石英管加厚，当初认为是可能质量会好一点。
4q)^9`1{�Q.[ [
g"n0C4I y ~ U;m 我是想说：+b;~ ?$w _ o)C _3J
1、以上想法有可能有误解。 K o#g z#z
2、石英管在PECVD工艺中爆裂，不是因为因为温度，而是电磁波的原因。 D.j&q N;G$g
3、国产外径30的石英管，壁厚越厚，气泡方面等缺点越难控制，反而壁厚薄，气泡越是能控制好，甚至没有，&T b O C-S T)H
4、所以我想请问，该工艺能否用：OD30*ID27*L1130mm，壁厚1.5mm,或者OD30*ID26*L1130mm，壁厚2.0mm5Z�Y H m L p t
-~ p3]/Y R'i1X W o
不知，哪位高手愿意一起来合作配合，能否愿意来试，我可以提供石英管。
F w/~5y-` Z(O
0H r z*A p x 另外，现在缠绕的那个膜，你们是用国产的还是3M的。

qxf05682 发表于 2009-5-31 09:35
很多人碰到同样的问题呀，你们的高温胶带是怎么缠的？机械或半机械，还是手工？

jsswll 发表于 2009-5-31 23:48
手工的PECVD的石英管！

quartz 发表于 2009-6-9 22:14
半机械缠绕，均匀性还好，膜中间重叠部分的尺寸定为：10mm

fixyxy 发表于 2009-6-10 13:04
手工缠绕PECVD的石英管。但总感觉中间有气孔。

quartz 发表于 2009-6-30 21:37
{zx1}结论，长久的与客户沟通、测试，PECVD石英管，不见得壁厚越厚寿命越长。

quartz 发表于 2009-10-15 22:20
我们可以提供国内{zh0}的PECVD石英管（进口材料，与德国原厂提供的一样），外径30mm，长度1130mm，根据国内最xx的太阳能电池片工厂**，已经得到使用评估，使用周期可到120小时。1e#i3S"V/@
解决德国原厂的交期慢、价格贵等问题。

kongsoso 发表于 2009-11-3 11:58
我们一般能用到200+H以上啊……

06461114 发表于 2010-2-24 20:30
是r&r设备吧 我们用的国产才85H就ＰＭ了

lxg990149 发表于 2010-3-10 15:35
请问楼主有管式PECVD设备方面的中文资料吗，现在急需，谢谢！


对于PECVD设备如何选择真空泵
对于CVD设备如何选择真空泵,有高手知道吗?

Q菜 发表于 2007-11-21 15:38
用罗茨泵和干泵搭配 g9| b'P5C q+O#f'~
看你工艺气体量来选择排量

Q菜 发表于 2007-11-21 15:39
我E-MAIL：[email]fzx1982@163.com[/email]*W G b o/l U6C H Y2w2C w,M
可以交流下

zhangyh 发表于 2007-11-21 15:44
用机械泵和罗茨泵就可以了，反应室容积大小是决定泵能力的主要参数。需要的压力可能都差不多

stream 发表于 2007-11-22 10:51
我想知道是以什么作为依据来选择泵的抽速和真空度的。
7A V8t ? r ]:i C;H/B!I 是根据腔体容积和反应压力吗？ D ^ |/b+s9l%I u
有没有什么计算依据

handsets 发表于 2007-11-26 18:21
[quote]原帖由 [i]stream[/i] 于 2007-11-22 10:51 发表 [url=http://www.2ic.tw/bbs/redirect.php?goto=findpost&pid=648130&ptid=339061][img]http://www.2ic.tw/bbs/images/common/back.gif[/img][/url]
o { a [ Z9t.V @ 我想知道是以什么作为依据来选择泵的抽速和真空度的。
$Z ? T"C"d q Z6v)I 是根据腔体容积和反应压力吗？%S*H S A&H k t [
有没有什么计算依据 [/quote]
? i.p+j v ~-E6C f 你说的没有错，主要是根据腔体的大小来选择抽速，以及你所做工艺选择泵体要求。工艺真空度来定义泵的真空度,

38368323 发表于 2007-11-28 21:49
淀积过程一般要求真空度不高，机械泵加罗茨泵xx可以满足，从洁净程度对机台污染考虑，选择干泵但价格较贵。泵大小一般选抽速8-15L/MIN就足够了，PECVD腔体都不算大。

berlinqq 发表于 2008-4-2 09:55
罗茨泵和干泵组成机组      干泵可用罗茨也可用螺杆

berlinqq 发表于 2008-4-2 09:56
如果真空室小，抽速小可不用罗茨泵

wxjaabbbcccc 发表于 2008-7-17 08:49
罗茨泵和干泵如何组成机组？

robb 发表于 2008-7-17 11:25
根据反应腔体的体积,选用不同的罗茨泵和干泵

berlinqq 发表于 2008-7-17 13:09
[quote]原帖由 [i]wxjaabbbcccc[/i] 于 2008-7-17 08:49 发表 [url=http://www.2ic.cn/bbs/redirect.php?goto=findpost&pid=770924&ptid=339061][img]http://www.2ic.cn/bbs/images/common/back.gif[/img][/url]
a!_!f.o!o;Q [ 罗茨泵和干泵如何组成机组？ [/quote]
1W w Y J u$L5o(f,j w6D
$a ? q4d O,u 罗茨泵不可以直排大气，而干泵可以，要用罗茨泵就必须用干泵做前级，罗茨泵只是个增压泵而已，提高抽速和极限压力。

一地烟头 发表于 2008-8-7 09:53
首先，要看看你用的chamber的大小，在进行讨论。一般来讲机械泵加罗茨泵的组合可以满足沉积过程的要求

jacky_xpyan 发表于 2008-8-9 19:39
CVD用的最多的应该是BOC"G,y q�M q5]�L s r2h X
的机械泵和干泵的组合泵

anjun7716 发表于 2008-9-23 16:09
干泵比較乾淨，不太容易產生污染的問題；机械泵相對于干泵來説這點就比較好．但具體的還是得根據chamber的大小以及制程的要求再进行選擇！

anjun7716 发表于 2008-9-23 16:11
干泵比較乾淨，不太容易產生污染的問題；相對于机械泵來説這點就比較好．但具體的還是得根據chamber的大小以及制程的要求再进行選擇！

erber 发表于 2008-9-27 09:43
PECVD对真空度要求不高

iyuway 发表于 2008-10-2 23:13
还要考虑CVD的Powder的问题。Pump温度、Passline长度、N2 Purge的点和量等。

oklong 发表于 2008-10-5 20:19
这种东西就是看自己的工艺要求了，泵就那几种类型。关键是看你们自己的要求啊

yaren18 发表于 2008-12-9 23:37
好的
进来看看，工艺的要求是很高的！！

luqing135 发表于 2008-12-11 11:28
我们用BUSCH的RP+DP组合.效果还不错.

dai_xg 发表于 2008-12-11 12:48
公司专业从事组建真空系统和专业经销进口品牌真空泵的企业,目前公司主要从事:水泵维修,真空泵维修,PUMP维修,Fomblin真空泵油,chiller维修等,真空系统的技术咨询、安装调试、保养维修及现场服务。
S G ~2G z X [url]www.schain.sh.cn[/url]

qcwu 发表于 2009-3-19 10:58
大家可不可以发一些真空pump 资料啊？

linbao.li 发表于 2009-3-19 14:29
机械pump +冷凝pump or分子pump，其实还是要看你的工艺要求和真空室的大小。实验性的和量产设备选择还是有区别的。有兴趣+个好友。我们公司专门做pecvd、mocvd....MSN :linbao.li@hotmail.com