真空气氛管式炉是一种先进实验设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备真空管式炉\气氛管式炉\气氛真空管式炉\真空气氛管式炉用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。SK系列真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温SK工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。
真空气氛管式炉是一种先进实验设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备
用途：真空气氛管式炉是用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。SK系列真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温SK工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。
真空管式炉\气氛管式炉\气氛真空管式炉\真空气氛管式炉都可以做的到.
真空管式炉\气氛管式炉\气氛真空管式炉\真空气氛管式炉系列介绍:
SK-1200℃系列真空气氛管式炉—产地天津—真空气氛管式炉
该产品适用于工矿企业、大专院校，科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用
产品用途:
用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。SK系列真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温SK工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长以及碳纳米材料的实验等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。
产品特点:
1、加热炉膛有上下两部分组成、其中上部炉膛可整体向后翻转110°，方便取放实验物料，炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成，节能50%，温场均匀。电热元件采用高电阻优质合金丝0Cr27a17Mo2；
2、完善的气路装置，具有进出气微量可调功能，管内压力由仪表显示，一目了然。采用可靠的多环密封技术，快速链接法兰方便操作；
3、随产品配置的不同口径的优质石英玻璃管与两端不锈钢密封总成连接后，为试验提供一个温场均匀、洁净、高温、气氛可控的环境。
4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PDI调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能。该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±2℃，温场均匀性6℃，升温速率1~10℃可任意设置；
5、设备超温保护、漏电保护功能，使用xxx；
6、设备利用空气隔热技术，炉壳表面温度＜50℃；
7、该设备为专利产品。
SK-1600℃系列-产地天津-真空/气氛管式炉:
产品用途:
用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品SK系列真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温SK工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。
产品特点:
1、炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成，节能50%，温场均匀。电热元件采用表面温度1800℃的优质硅钼棒；
2、完善的气路装置，具有进出气微量可调功能，管内压力由仪表显示，一目了然。采用可靠的多环密封技术，快速链接法兰方便操作；
3、随产品配置的不同口径的优质石英玻璃管与两端不锈钢密封总成连接后，为试验提供一个温场均匀、洁净、高温、气氛可控的环境。
4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PDI调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能。该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±2℃，温场均匀性6℃，升温速率1~5℃可任意设置；
5、设备超温保护、漏电保护功能，使用xxx；
6、设备利用空气隔热技术，炉壳表面温度＜50℃；
7、该设备为专利产品。
产品名称:开启式真空管式炉
型号:SK-G06123K
规格:1200度
产地:中国天津
类别:开启式
产品名称:真空气氛管式炉
型号:SK-G06163
规格:1700度
产地:中国.天津
类别:封闭试
刚玉管*石英管*真空泵*坩埚*瓷舟*气氛配件
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