电子级过氧化氢氧化电子芯片金属离子及有害杂质
微电子行业的核心是超大规模集成电路芯片的生产技术,在复杂的生产过程中有多道工序要使用超纯过氧化氢。由于芯片生产极其严格的要求是人类工业化生产{wy}的,杂质对芯片生产都是致命的。为了防止生产过程中受外来杂质(特别是金属离子)污染,因此所用过氧化氢必须是超纯的,其质量要求是极其苛刻的。 

产品特性

诺福的主要功效成份:稳定性过氧化氢和胶质银离子。这两种成份作用的机理是:都能氧化芯片的有害杂质(特别是金属离子)和穿透xx、微生物的细胞壁和细胞膜使其关键功能成分被氧化。

产品用途 

1,产品广泛应用于超大规模集成电路和TFT-LCD面板制造过程及太阳能硅片的蚀刻与清洗。

2,用于电子芯片、电子器件氧化物去除、金属管件上的氧化铜、氧化铁、氧化铝等氧化物的去除。 
产品使用方法:
用诺福电子级氧化剂1300的使用比例,浸泡半小时即可使芯片,电子原件等表面的杂质(特别是金属离子)去除,氧化。
特殊性能 
能有效去除电子器件基材上的氧化铜和聚合物材料。 

能在金属表面形成保护膜,有效阻止金属表面再氧化和腐蚀。

产品性能:

外表:             透明液体

溶解性:          xx可溶解

颜色:            无色/ 澄清

味道:             xx无味

pH        1.2

沸点         1013 豪吧条件下114, 0° C

冰点            -51° C

重量             1.196 kg/l.

生物降解能力 诺福电子级氧化剂,不会污染环境,分解后只有水和氧气

分解过程:      2 H2O2 → 2 H2O + O2

产品储存 
本品xx,属非易燃易爆品,贮于阴凉、避风处,密闭保存。存放期24个月。 

诺福中国 唐先生联系手机:13424158500



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