抛光机学术交流,祝大家2010年万事如意!_抛光机_新浪博客

  今天我们人家要给大家讲一下有关抛光机的一些小知识,希望朋友们可以更多地了解有关的信息。

   粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有{zd0}的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;

   精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。抛光时,试样磨面与抛光盘应{jd1}平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至出现黑斑,轻合金则会抛伤表面.

 大家在使用抛光机的过程中肯定会有很多实战的经验,我们都可以拿出来交流一下,让我们互相学习,共同进步!在新的一年里我们也祝愿大家在新的一年里幸福快乐,万事如意!!

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