河北省激光研究所等离子体研究室--光学级CVD金刚石膜、热学级CVD金刚石 ...

河北省激光研究所等离子体研究室--光学级CVD金刚石膜、热学级CVD金刚石膜、CVD金刚石修整器坯料、CVD金刚石拉丝模芯

2010-02-02 16:12:44 阅读1 评论0 字号:

河北省激光研究所等离子室成立于1992年,主要从事低温等离子体和CVD金刚石膜技术的研究与开发,先后承担了国家863计划"八五""九五""十五"期间项目"金刚石膜制备关键设备研制""大面积高光学质量金刚石膜的制备、加工及应用"等课题,此外还承担了多项河北省重大攻关项目和河北省自然基金项目。

作为转制研究所,我们还致力于科研成果向产业化生产技术转化的研发工作。在良好的研究基础上,我们开发了一系列金刚石膜产品。可批量提供CVD金刚石拉丝模芯、砂轮修整器坯料及各种尺寸的金刚石热沉片,光学级金刚石膜可根据用户要求定做。沉积的金刚石膜面积直径可达200mm,厚度可达2mm,热导率{zg}可达18W/cm.K。

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① 直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜设备

DC Arc Plasma Jet CVD金刚石设备是在国家“863”计划的重点资助下完成的。该设备分为LP60、LP120、LP200三种规格。LP60的沉积区域为Φ60mm,可用于制备自支撑金刚石厚膜,沉积速率可达40um/h。LP100和LP200设备,在不增加输入功率的情况下,将沉积区域扩大,生长速率可达8--15um/h,主要用于沉积金刚石薄膜涂层。
设备特点:
■ 利用动态磁扩弧技术,实现了金刚石膜的大面积、均匀沉积;
■ 设备运行可靠,可长时间连续运转;
■ 沉积速率快、质量高、均匀性好;
■ 改变工艺参数,可用于沉积多种用途的金刚石膜。


  ②科研成果介绍


■ 河北省省管课题:空气等离子切割机。该成果获河北省科技进步三等奖,并获得了良好的社会和经济效益。
■ 河北省省管课题:等离子喷射高速生产金刚石膜设备及工艺研究。课题成果获98年省科技进步一等奖。
■ 863计划85期间重大项目:金刚石膜制备关键设备研制。(与北京科技大学共同承担)该项目顺利通过了863专家委员会组织的验收,并获得很高评价。
■ 863计划95期间重大项目:大面积高光学质量金刚石膜的制备、加工及应用。(与北京科技大学共同承担)项目的2000年研究成果被评为863计划年度xx进展之一。项目的部分成果获北京市2002年科技进步二等奖。
■ 河北省自然基金项目:光学级人造金刚石膜制备。该项目获河北省2002年科技进步三等奖。
■ 河北省重大攻关项目:金刚石膜表面金属化工艺研究及应用。该项目已通过省级鉴定。
■ 河北省中小企业创新项目:替代xx金刚石的CVD拉丝模坯料研究开发。项目进行中。

引文来源  

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