平面研磨机与非接触式研磨原理的根本区别。
 
1、超精密平面研磨机主要应用于亚纳米级超光滑平面零件、中小型精密平面零件的超精密研磨和抛光加工。此外，通过附加工装，东莞研磨机www.djzxjx.com还可将其应用于球类和圆柱类零件的超精密研磨、抛光加工。其主要技术指标为加工工件平面度0.03μm/(50mm×50mm)，加工工件表面粗糙度Ra0.000 3μm。超精密平面研磨机具有高精度的抛光盘和运动主轴，轴向跳动精度优于0.2μm，能使零件与抛光盘保持在一定间隙下平稳运动。抛光盘主轴和工件主轴均为可调速的主动驱动轴，工件(上研磨盘)与抛光盘(下研磨盘)保持固定的偏心距绕各自轴线旋转，利用上下主轴的“定偏心、同方向、同转速”实现工件材料的均匀去除。在超精密平面研磨机上配有金刚石切削机构，可以对下研磨盘(用金属锡制成)进行在线超精密螺旋线沟槽车削修整。上研磨盘直径Φ180mm，下研磨盘直径Φ500mm。超精密平面研磨机工艺试验中，上、下研磨盘转速相同，均为20r/min。
 
2、非接触式超精密研磨原理是实现超精密研磨抛光的有效方法，因其在微小研磨粒子的撞击和研磨液的化学作用下产生研磨作用，可获得极高的研磨表面质量，所以具有广泛的应用范围。研磨时工件与研磨平板(抛光盘)不直接接触，工件的研磨平面靠自身重量浸泡于具有微小研磨粒子的研磨液中，通过研磨平板与工件的相对运动，使研磨粒子与工件表面在近似平行的方向上发生碰撞，从而产生机械、化学的去除作用。由于研磨粒子直径很小，在与零件表面近似平行的方向上碰撞时产生的切削力很弱，理论上能够实现原子级的材料去除，同时不破坏材料的晶格组织，在被加工表面几乎不产生变质层，故非接触式研磨可获得极高的零件表面加工质量。零件表面与研磨平板间存在液膜的均化效应，因此这种方法能够获得比其它研磨方法更高的面形精度。由于非接触式研磨方法对材料的去除率较低，所以要求被研磨工件本身必须具有一定的精度与表面质量。在研磨前，工件研磨表面的精度应该控制在平面度1μm~3μm、表面粗糙度Ra0.4μm~Ra0.8μm的范围内，否则可能会造成严重塌边以致无法达到工艺要求，需要重磨后再研磨，甚至导致工件报废的后果。