手机屏蔽盖设计

金属屏蔽盖薄型结构件一般都采用箔材冲压成形。作为结构件,屏蔽盖必须保证具有一定的外形尺寸精度要求,并且要按照薄壁冲压件的特点进行设计。作为屏蔽件,它与电磁场及其频率有关,必须保证一定的电磁性能要求。在SMT组装方面,屏蔽盖是作为一个器件(SMD)来完成焊接工作的。在设计屏蔽盖时,必须同时考虑其结构工艺、电气性能和组装焊接性能等多方面的技术问题。

设计屏蔽盒时应注意以下几点:
    1.屏蔽盒的孔主要用来散热和减轻重量。{zd0}允许孔径与电磁波频率有关。按手机的频率计算,孔径应不大于φ3mm。
    2.屏蔽盒的长、宽尺寸公差一般为±0.10;高度公差为±0.08;平面度误差0.10。大于35mm时公差值应再加0.05mm。
    3.材料的厚度一般为0.13~0.2mm。
    4.SMT吸盘尺寸应大于6mm。
    5.二件式屏蔽盒的上盖底面应高出下盖底面最少0.5mm,以免SMT焊接时将上盖也焊死。
    6.需焊接的底面建议冲成锯齿形,齿间距小于3mm,以使能更好的焊接。
    7.最小冲切缝隙为0.8~1mm。
    8.上盖尺寸应比下框单边大0.1mm。
    9.凹坑与凸起点的作用:一是触点要导电接通;二是锁扣将二件扣住。其结合要保证既压紧又易取。跌落试验时,不得脱离。结合力一般为20~50N。
    10.最合理的材料选择为:镍白铜底+不锈钢盖。
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