2.主要原材料：硅粉、HCL

（1）主产品的物理、化学性质：

化学式：SIHCL3 ； 比重：1．35；相对气体密度：4．7；  沸点：31．8℃；饱和蒸气压（14．5℃）53．33Kpa；闪点：－13．9℃（开杯）；自燃温度：175℃；爆炸下限：6．9％；爆炸上限：70％；溶解性：溶于苯、醚等有机溶剂；具有急性毒性。是无色液体，易挥发，易潮解，在空气中发生反应产生白烟，遇水分解，溶于苯、醚等有机溶剂。属一级遇湿易燃物品，易燃易爆，遇水反应产生氯化氢气体；它与氧化剂发生强烈反应，遇明火、高热时发生燃烧或爆炸。

用途：

    单晶硅原料、外延成长、硅液、硅油、化学气相淀积、硅酮化合物制造、电子气

（2）副产品的物理、化学性质：

【相对分子量或原子量】169.89

　　【密度】1.50

　　【熔点（℃）】-70

　　【沸点（℃）】57.6

　　【折射率】1.412

　　【毒性LD50(mg/kg)】　　大鼠吸入800

化学式为：SICL4无色透明重液体，有窒息气味。溶于xxxx、四氯化钛、四氯化锡。无色或淡黄色发烟液体，有刺激性气味，易潮解 ；蒸汽压 55.99kPa(37.8℃)；

溶解性： 可混溶于苯、氯仿、石油醚等多数有机溶剂。 密 度： 相对密度(水=1)1.48；相对密度(空气=1)5.86 ；稳定性： 稳定；  危险标记： 20(酸性腐蚀品)

用途：

用于制硅酸酯类、有机硅单体、有机硅油、高温绝缘材料、硅树脂、硅橡胶等，也用作烟幕剂。

3.生产过程的主要工作原理及工艺流程简图：

   氯气和氢气在氯化氢合成炉内通过燃烧反应生成氯化氢，氯化氢气体经空冷、水冷、深冷和酸雾捕集脱水后进人氯化氢缓冲罐，然后送三氯氢硅合成炉。硅粉经过干燥后加入到三氯氢硅合成炉，与氯化氢在300℃左右的高温下反应，生成三氯氢硅和四氯化硅。生成的粗三氯氢硅气体经过旋风分离和除尘过滤后，进入列管冷凝器进行水冷和深冷，不凝气通过液封送入尾气洗涤塔，处理后达标排放，冷凝液蒸馏塔分离提纯，通常采用二塔连续提纯，一塔塔顶排低沸物，二塔塔底排高沸物四氯化硅，同时塔顶出三氯氢硅产品。

4.主要工艺操作参数及影响因素分析：

硅粉：含水量<=0.01%（干燥后）；细度：60~120目；

HCL纯度：>=99%

温度：（t/℃） 当t<280℃时，合成料的主要成份为：二氯二氢硅

             当t=280℃~320℃时，合成料的主要成份为：主产品三氯氢硅

             当t>300℃时，合成料的主要成份为：四氯化硅

压力（p/Mpa）当p>0.4Mpa时，合成气的冷凝效果不好

             当p=0.25~0.35时，冷凝效果{zj0}。

料层厚度：   当料层厚度较低时，合成炉温度急剧升高，压力波动较大；

             当料层厚度适中时（合成炉里有约8吨硅粉），温度和压力都较稳定；

             当料层厚度较高时，反应速率降低。