微波等离子体化学气相沉积法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前国际上被用于高品质金刚石膜制备的首 选方法. MPCVD 装置将微波发生器产生的微波经波导传输系统进入反应器, 并通入甲烷与氢气的混合气体, 在微波的激发下, 在反应室内产生辉光放电, 使反应气体的分子离化, 产生等离子体, 在基板台上沉积得到金刚石膜. 上海伯东某客户投资数亿元采购 MPCVD 长晶设备用于人造金刚石的生产, 预计年产量超万片.
MPCVD 需要检漏: 在使用 MPCVD 设备进行金刚石合成的过程中, 如果设备有泄漏的情况, 将会使合成的金刚石中掺有杂质, 影响金刚石的品质, 一般漏率要求 1E-9 mbar l/s. 需要快速的对设备进行定量定位的泄露检测, 传统检漏方式无法满足.
上海伯东 客户案例: 为了解决这一问题, 上海伯东推荐客户采购氦质谱检漏仪 ASM 340, 利用真空法对 MPCVD 进行检漏, 漏率设置 1E-9 mbar l/s.
1. 将设备通过波纹软管连接, 确认连接完毕
2. 启动 ASM 340, 进入待机界面; 初次启动时间大约 3min, 以后启动 < 1min
3. 按下开始键, 先通过 bypass 阀门启动 ACP 28 抽真空, 到达一定压力检漏仪 ASM 340 开始工作, 同时在设备怀疑有漏的地方喷氦气 (腔体, 焊缝, 连接处); 若有漏, 马上报警, 显示该喷射点有漏.
4. 检测完毕, 按下待机键, 放气, 关闭电源, 移除连接管路.
氦质谱检漏仪 ASM 340 与传统泡沫检漏和压差检漏对比, 在提供无损检漏的同时可以检测出更小的漏率 5E-13 Pa m3/s, 利用氦气作为示踪气体可精 确定位, 定量漏点.
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型号 |
ASM 340 W |
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对氦气的最小检测漏率 |
5E-13 Pa m3/s |
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检测模式 |
真空模式和吸枪模式 |
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检测气体 |
4He, 3He, H2 |
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启动时间 min |
3 |
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对氦气的抽气速度 l/s |
2.5 |
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进气口最 大压力 hPa |
25 |
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前级泵抽速 m3/h |
油泵 15 |
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重量 kg |
56 |
结合了 Pfeiffer 与 Adixen 两家的技术优势, 上海伯东德国 Pfeiffer 推出全系列新型号, 从便携式到工作台式满足各种不同的应用. 替代传统泡沫和压差, 利用氦气作为示踪气体可精 确定位, 定量漏点. 满足单机检漏, 也可集成在系统或 PLC.
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