应用于超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System
超高真空环境的特征为其真空压力低于 10-8 至 10-12 torr, 超高真空环境对于科学研究非常重要, 因为实验通常要求在整个实验过程中, 表面应保持无污染状态和使用低能电子和离子的实验技术的使用, 而不会受到气相散射的过度干扰, 在这样超高真空环境下使用电子束蒸镀可以提供高质量的薄膜. 上海伯东代理美国 可以在蒸镀过程中实现预清洁和辅助镀膜的作用.


如上图是超高真空电子束蒸镀设备, 针对超高真空和高温加热设计基板旋转镀膜机构, 使用陶瓷培林旋转, 并在内部做水冷循环来保护机构以确保长时间运转的稳定性.

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