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伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助镀制 HfO2 薄膜

传统直接蒸发 HfO₂块材料, 容易产生节瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光损伤阈值, 因此, 为了获取高质量的 HfO₂薄膜, 某机构采用 KRI KDC 160 辅助镀制 HfO₂薄膜.

客户的样品基底材料为 K9 玻璃, 靶材为 HfO₂块材料, 运行的离子源偏压为 90V.

KRI 考夫曼离子源 KDC 160

伯东美国 KRI KDC 160 技术参数:

离子源型号
Discharge	DC 热离子
离子束流	>650 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	16 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-30 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	25.2 cm
直径	23.2 cm
中和器	灯丝

* 可选: 可调角度的支架

应用结果：

通过使用伯东 KRI KDC 160 在偏压为 90V 时, 制造得到的HfO₂ 薄膜晶粒减小, 膜结构更均匀, 缓解了激光能量的局部聚焦, 因此具有较高的损伤阈值.

伯东是德国 , , , , 美国 , 美国, 美国 , 美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

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