为了获取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯东 KRI 双辅助离子束溅射沉积技术镀制 Ta2O5 薄膜进行研究.
其系统工作示意图如下：
该研究所的离子束溅射镀膜组成系统主要由溅射室、双、溅射靶、基片台等部分组成.
其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗.
用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型, 其参数如下:
伯东 KRI 聚焦型射频 RFICP 380 技术参数：
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射频型号 |
RFICP 380 |
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Discharge 阳极 |
射频 RFICP |
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离子束流 |
>1500 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
30 cm Φ |
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离子束 |
聚焦 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
39 cm |
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直径 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
推荐理由：
聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染
用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000
KRI Gridless eH 3000 技术参数:
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型号
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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电压 |
50-250V |
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电流 |
20A |
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散射角度 |
>45 |
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可充其他 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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气体流量 |
5-100sccm |
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高度 |
6.0“ |
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直径 |
9.7“ |
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水冷 |
可选 |
其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5Pa, 经推荐采用伯东, 其技术参数如下：
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进气法兰 |
氮气抽速 |
极限真空 hpa |
前级泵 型号 |
前级泵抽速 |
前级真空 |
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DN 40 ISO-KF |
35 |
< 1X10-7 |
Pascal 2021 |
18 |
AVC 025 MA |
运行结果：
伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术可以制备不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
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