KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜

国内某制造商在钛合金表面制备一层类金刚石薄膜 DLC, 以期改善钛合金表面摩擦学性能, 为了获得均匀且致密的类金刚石薄膜, 采用伯东 KRI 聚焦型射频 RFICP 380 制备类金刚石薄膜.

伯东 KRI 聚焦型射频 RFICP 380 技术参数:

射频型号

RFICP 380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推荐理由:

使用 KRI 聚焦型射频 RFICP 380可以准确、灵活地对样品选定的区域进行沉积和刻蚀.

 

运行结果:

1. 沉积的类金刚石薄膜厚度约为 1.0 μm, 薄膜均匀且致密, 表面粗糙度Ra为13.23nm

2. 类金刚石薄膜与基体结合力的临界载荷达到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的减摩性, 摩擦系数为0.15, 耐磨性能得到提高

 

伯东是德国  , , , , 美国  , 美国, 美国  , 美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

 

 

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