某大型工业薄膜制造商采用伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助热蒸发技术镀制高质量光学薄膜, 以获得良好的机械性能和光学特性的薄膜, 同时获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜.

其工作系统如下图：

KRI  Gridless eH 3000最适合大型真空系统, 与友厂大功率对比, eH 3000 是目前市场上, 提供高离子束流的.

KRI  Gridless eH 3000 技术参数:

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

该制造商的离子源辅助镀膜系统由霍尔离子源, 电源及控制系统和质量流量计 3 部分组成, 如下图：

其中霍尔离子源发射离子, 质量流量计向离子源提供气体并保证气流稳定, 电源及控制系统向离子源供电并保证放电参数放电电压及电流稳定.

KRI  Gridless eH 3000 运行结果：

1. 适用工业规模生产

2. 获得良好的机械性能和光学特性的薄膜

3. 获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜

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