KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 BCx 薄膜

兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼 RFICP140 作为溅射源溅射碳化硼靶和石墨靶(纯度均为99.9%, CrMoAl 齿轮钢和 Si100)表面沉积 BCx 薄膜

 

伯东 KRI 考夫曼 RFICP140 技术参数:

型号

RFICP140

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>600 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

14 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

试验结论:

相同的沉积时间内, BCx 薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能当石墨靶电流为 2.4A , BCx 薄膜的摩擦因数稳定在 0.2 左右且具有更佳的耐磨性能。

 

KRI 的独特功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 技术的情况下是无法实现的.

 

伯东是德国  , , , , 美国  , 美国HVA 真空阀门美国  , 美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

 

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