KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜

铱 (Ir) 是一种很好的真空紫外反射材料. 在 50100nm 的波长范围内, Ir 膜反射率比此波长范围内常用材料 Au、Pt 都高, 虽比 Os 膜反射率稍低, 但后者时效效应严重. 相比之下, 空气中的时效对 Ir 膜反射率几乎没有影响, 考虑综合性能, Ir 膜在真空紫外波段 50100nm 范围内佳.

 

安徽某大学课题租采用伯东  , 在石英、K9 玻璃和 Si 基片上溅射沉积不同厚度的 Ir 膜各种不同厚度的 Ir 膜, 研究基片、表面厚度、离子束能量对 Ir 膜反射率的影响.

 

伯东 KRI  RFICP220 技术参数:

型号

RFICP220

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

离子束

聚焦,   平行,   散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

30 cm

直径

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

KRI 射频离子源 RFICP 220

试验中, 采用伯东   辅助磁控溅射沉积的方法获得均匀致密、大面积的 Ir 膜, 沉积过程中通过调节参数, 沉积时间等从而得到不同厚度的 Ir 薄膜材料, 满足各种试验需求.

 

KRI 的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 技术的情况下是无法实现的.

 

因此,  该研究项目才采用  辅助溅射沉积工艺.

 

伯东是德国  ,  , , , 美国  , 美国, 美国  , 美国 Ambrell 和日本 NS 等进口品牌的指定代理商.

 

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