高校实验室小型离子磁控溅射仪

小型溅射仪

KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。


设备名称

小型溅射仪

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

工作电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-9995段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤500mA

真空

机械泵 ≤5Pa5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

10Pa

挡板类型

电控

真空腔室

石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口

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