NP2018DR 16A/20V 场效应MOS管N沟道 DFN封装

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    深圳市晶立弘泰电子科技有限公司

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    Description
    The NP2018DR uses advanced trench technology
    to provide excellent R DS(ON), low gate charge and
    operation with gate voltages as low as 2.5V. This
    device is suitable for use as a load switch or in PWM

    applications.


    General Features

    VDS =20V,ID=16A

     RDS(ON) (Typ.)=11.5mΩ @V GS=2.5V

     RDS(ON) (Typ.)=9mΩ @V GS=4.5V

    High power and current handing capability

    Lead free product is acquired

    Surface mount package


    Application
    PWM applications

    Load switch


    Package
    DFN2*2-6L-B
    郑重声明:产品 【NP2018DR 16A/20V 场效应MOS管N沟道 DFN封装】由 深圳市晶立弘泰电子科技有限公司 发布,版权归原作者及其所在单位,其原创性以及文中陈述文字和内容未经(企业库qiyeku.com)证实,请读者仅作参考,并请自行核实相关内容。若本文有侵犯到您的版权, 请你提供相关证明及申请并与我们联系(qiyeku # qq.com)或【在线投诉】,我们审核后将会尽快处理。
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