黄铜掩膜版超薄0.05mm不锈钢遮光片精细加工非标定制
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
掩膜版材质:
掩膜版根据基板材质的不同可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)。石英掩膜版使用 石英玻璃作为基板材料,光学透过率高,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整耐磨,使用寿命长,主要用于高 精度掩膜版,苏打掩膜版则使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版;而凸版使用不饱和聚丁二烯树脂作为基板材料,主要用于液晶显示器(LCD)制造过程中的定向材料移印;菲林使用 PET 作为基板材料,主要用于电路板掩膜。