科研KT-Z1605CVD 金属铜靶材蒸镀仪 小型蒸镀仪

技术规格：
- 基底尺寸：3英寸，4英寸，6英寸；
- 基底旋转：8转/分钟；
- 热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源；
- 腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；
- 泵：前级干泵，分子泵；
- Load Lock样品传输腔室：手动或自动传输，高真空，支持多种样品衬底(选配)；
- 工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；
- 原位监控：石英晶振监测(QCM)，光学监测，残余气体分析，其他原位监测技术或控制；
- 衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；

-        衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；

-        保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；