等离子清洗机刻蚀

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    等离子清洗机刻蚀KT-S2DQX应用领域:光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天  然晶体和宝石。清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。高分子材料表面的修饰。封装领域中的清洗和改性,增强其粘附性,适用于直接封装及粘和。改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

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    等离子清洗机刻蚀KT-S2DQX

    供电电源

    AC220V(AC110V可选)

    工作电流

    整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

    射频电源功率

    150W

    射频频率

    13.56MHz

    频率偏移量

    <0.2MHz

    特性阻抗

    50欧姆,手动匹配

    耦合方式

    电容耦合

    真空度

    ≤100Pa

    腔体材质

    高纯石英

    腔体容积

    2L(内径110MMX深度220MM)

    观察窗内径

    Φ65

    气体流量

    10—100ml/min(其他量程可选)

    过程控制

    过程手动控制

    清洗时间

    手动开关

    开盖方式

    铰链侧开式法兰

    外形尺寸

    400x380x360mm

    重量

    23Kg

    真空室温度

    小于65°C

    冷却方式

    强制风冷

    标配

    KF16真空管1米,kf16卡箍2个,不锈钢网匣1个,电源线一根,说明书一本。





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