小型溅射仪郑科探KT-Z1650PVD
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消 除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
磁控溅射优点
(1)沉积速率快,沉积效率高,适合工业生产大规模应用;
(2)基片温度低,适合塑料等不耐高温的基材镀膜;
(3)制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强;
(4)可制备金属、合金、氧化物等薄膜;
小型溅射仪郑科探KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;
控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 |
直流溅射电源 |
镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 |
≤1000W |
输出电压电流 |
电压≤1000V 电流≤1A |
真空 |
机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 |
≤30Pa |
挡板类型 |
电控 |
真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 |
可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 |
8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 |
40-105mm |
真空测量 |
皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa) |
预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |