桌面式小型溅射仪
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桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD
传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传溅射效率低，电子轰击路径短也会导致基片温度升高，为了提高溅射效率，在靶下方安装强磁铁，中央和周圈分别为N、S极。电子由于洛伦兹力的作用被束缚在靶材周围，并不断做圆周运动，产生更多的Ar+轰击靶材，大幅提高溅射效率，如图所示，采用强磁铁控制的溅射称为磁控溅射。
桌面式小型溅射仪KTZ1650PVD厂家供应技术参数；
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控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
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溅射电源 |
直流溅射电源 |
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镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
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功率 |
≤1000W |
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输出电压电流 |
电压≤1000V 电流≤1A |
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真空 |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
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溅射真空 |
≤30Pa |
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挡板类型 |
电控 |
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真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
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样品台 |
可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
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样品台转速 |
8转/分钟 |
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样品溅射源调节距离 |
40-105mm |
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真空测量 |
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
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预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
