桌面式溅射仪

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    郑州科探仪器设备有限公司

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    桌面式溅射仪KT-Z1650PVD水冷式溅射源,可实现高功率持续运行,有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。

         电子电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛伦兹力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长。


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    桌面式溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;

    控制方式

    7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

    溅射电源

    直流溅射电源

    镀膜功能

    0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

    功率

    ≤1000W

    输出电压电流

    电压≤1000V  电流≤1A

    真空

    机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

    溅射真空

    ≤30Pa

    挡板类型

    电控

    真空腔室

    石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

    样品台

    可旋转φ62  (可安装φ50基底)

    样品台转速

    8转/分钟

    样品溅射源调节距离

    40-105mm

    真空测量

    皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

    预留真空接口

    KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口




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