LEF100 镭射系列干膜光阻剂
面议
LEF100 镭射系列干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，应用于内外层线路制作，特别适用于265nm和405nm激光直接成像系统。
特色及优点
高解析度 -1-2 mil 线宽/线距
曝光速度快
附着力好
抗化学性好
性能稳定
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项目 |
单位 |
LEF112 |
LEF115 |
备注 |
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厚度 |
μm |
30 |
38 |
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感度*1 |
mj/cm2 |
16 |
24 |
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最短显影时间 |
sec. |
20 |
22 |
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附着力*1*2(L/S=X/250) |
μm |
30 |
40 |
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解析度*1*2（L/S=X/X） |
μm |
25 |
30 |
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盖孔孔径 |
μm |
// |
6.0 |
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*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短显影时间x2
*3:分辨率、解析度以及显影后图像。
