当温度在10~20℃之间时,所生成的氧化膜多孔,吸附能力强,并富有弹性,适宜染色,但膜的硬度低,耐磨性差;当温度低于10℃,氧化膜的厚度增大,硬度高,耐磨性好,但孔隙率较低。因此,生产时必须严格控制电解液的温度。要制取厚而硬的氧化膜时,必须降低操作温度,在氧化过程中采用压缩空气搅拌和比较低的温度,通常在零度左右进行硬质氧化。
铝氧化得到的氧化膜较薄,韧性好,耐蚀性好,适用于氧化后需变形的铝及铝合金,也可用于铸铝件的表面防护,氧化后不需要钝化或填充处理。②配方2溶液pH值为1.5~2.2,得到的氧化膜较厚,约1~3微米,致密性及耐蚀性都较好,氧化后零件尺寸无变化,氧化膜颜色为无色至浅蓝色,适用于各种铝及铝合金氧化处理。
三段c(曲线cd段):多孔层增厚。阳极氧化约20s后,电压进入比较平稳而缓慢的上升阶段。表明无孔层在不断地被溶解形成多孔层的同时,新的无孔层又在生长,也就是说氧化膜中无孔层的生成速度与溶解速度基本上达到了平衡,故无孔层的厚度不再增加,电压变化也很小。