碲靶Te，镍靶

东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯金属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。

碲靶Te，镍靶

公司主要经营产品： 

一、真空镀膜材料 

1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）

纯金属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等… 

稀土金属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

金属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：

金属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化T18919837845(不是联系方式)钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…

我国的ITO靶材的生产能力为100-150吨/年，但实际产量仅为20-30吨/年。并且因生产技术一直没有实现实质突破，产品均以低端靶材为主，满足液晶面板需求的几乎为零。但我国ITO靶材生产企业一直在寻求突破

随着ITO靶材国产化进程的加快，金属铟的国内需求有望大幅度长,照ITO含铟量70%计算，300吨ITO就需要210吨精铟，到2020年，ITO靶材对铟的需求量将达到420吨。目前，全球的铟80%以由中国生产和供给。ITO靶材的国产化，将实现我国有色金属资源优势和液晶面板产业优势的结合，将极大的完善我国液晶面板的产业链。2011年4月21日，铟在泛亚有色金属易所始市易，通过近四年的易，平台的铟99.995%易已经获得了业内外人士的普遍认可，随着未来用于各领域的铟锡靶材的加，铟的长期需求被看好，而其金融属也日益强

【原创内容】
属钼作为背靶材料。不锈钢管(SST)–目前最常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管，因为不锈钢管有良好的强度和导热而且非常经济二、背靶重复使用大部分背靶可以重复使用，尤化合物覆盖面积加的速率得不到抑制，溅射沟将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶xx中一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合能重复使用。当我们收到用户提供的已使用过的背靶后，我们会首先进行卸靶处理（如适用）并且对背靶进行xx检查，检查的重点括背靶的平整度，完整及密封等。我们会通知用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为是无氧铜，因为无氧铜有良好的导和导热，而且比较容易机械加工。如果保养适当，无氧铜背靶可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的况下，如物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，