铜铟镓硒靶材 CIGS靶材
面议
磁控溅射镀膜是一种新型的物xx相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。（CIGS薄膜太阳能专用）
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项目 |
铜铟镓硒靶材（CuInGaSe）比例（按客户需求） |
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纯度 |
99.9%-99.999% |
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尺寸 |
圆形：2-8英寸 方形：1000mm 可根据用户需要进行定制 |
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公差 |
±0.1mm |
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用途 |
溅射镀膜 蒸发镀膜 实验或研究级别 |
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产品优势 |
纯度高，杂质少，相对致密度高，晶粒均匀，一致性高 |
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产品附件 |
正式报价单/购销合同/装箱单/检测单 |
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包装说明 |
国内快递承运 |
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服务 |
提供免费样品&材料应用解决方案 |
