RTP快速退火炉
面议
TP快速退火炉由我公司自主研发。采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，安全可靠，目前已被各种试样实验多次验证，并已广泛用于半导体器件研发及生产等领域，该系统可满足离子注入后的快速退火，也可用于欧姆接触快速合金，还可用于硅化物合金退火，氧化物生长，以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。
主要技术参数
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规格型号 |
CY-R1100-A |
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稳定状态温度范围 |
100～1000℃ |
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温度测量精度 |
±0.2℃ |
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温度控制重复性 |
±1℃ |
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温度控制xx度 |
±1℃ |
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温场均匀性 |
±2℃ |
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最快升温速率 |
500℃/S |
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降温速率 |
1～200℃/S（通氮气，速率更快） |
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温度控制模式 |
智能模糊PID控制 |
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操控系统 |
CY-101温控系统 |
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扩充端口 |
可扩充真空测控和FFC供气系统 |
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热电偶校准状态检测 |
软件校准，方便准确，软件分析传感器状态是否正常 |
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超高温状态检测 |
软件检测出温度信息出现高温异常时，切断主回路 |
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显示模式 |
LCD触摸屏 |
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设计功率 |
15KW |
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额定电压 |
AC380～400V，50Hz（60Hz定制） |
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传感器类型 |
S型热电偶 |
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反应腔室内径尺寸 |
Φ100X200 |
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式样有效空间 |
3.5" |
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真空度 |
4.3X10E-3Pa(需要另外外配分子泵） |
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抽气端口尺寸 |
KF16（或Φ8mm宝塔嘴） |
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供气口尺寸 |
Φ6.35mm双卡套 |
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冷却方式 |
自然冷却或强迫风冷 |
