一、硅材料冲洗用高纯水设备应用范围概述：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液
显像管和阴极射线管生产 配料用纯水
黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液
晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
集成电路生产中高纯水清洗硅片
二、典型工艺流程
预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线xx器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线xx器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）({zx1}工艺)
预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线xx器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） ({zx1}工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线xx器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）({zx1}工艺)
处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线xx器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
三、达到标准
显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据）
集成电路用纯水水质
国家电子级纯水标准
美国SEMI标准
